TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀

簡要描述：TFMS-LD是一款反射光譜薄膜測厚儀，可快速精確地測量透明或半透明薄膜的厚度，其測量膜厚范圍為15nm-50um，儀器所發出測試光的波長范圍為400nm-1100nm。此款測試系統理論基礎為鏡面反射率，并且采用光纖反射探頭。儀器尺寸小巧，方便于在實驗室中擺放和使用。

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廠商性質：生產廠家
更新時間：2018-11-05
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TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀是一款利用反射光譜測試薄膜厚度的儀器，可快速精確地測量透明或半透明薄膜的厚度而不損傷樣品表面的薄膜，是一款無損測厚儀，其測量膜厚范圍為15nm-50um，測量膜厚范圍廣，尤其適用于超薄薄膜厚度的測量。儀器所發出測試光的波長范圍為400nm-1100nm，波長范圍廣，因此，測試薄膜厚度的范圍廣。TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀測試系統的理論基礎為鏡面光纖反射探頭，該儀器尺寸小巧可節省實驗室空間，操作方便，讀數直觀，方便于在實驗室中擺放和使用。

產品型號	TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀
測量膜厚范圍	15nm-50um
光譜波長	400 nm - 1100 nm
主要測量透明或半透明薄膜厚度	氧化物氮化物光刻膠半導體（硅，單晶硅，多晶硅等）半導體化合物（ALGaAs,InGaAs,CdTe,CIGS等）硬涂層（碳化硅，類金剛石炭）聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺) 金屬膜
特點	測量和數據分析同時進行，可測量單層膜，多層膜，無基底和非均勻膜包含了500多種材料的光學常數，新材料參數也可很容易地添加，支持多重算法: Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等體積較小，方便擺放和操作可測量薄膜厚度，材料光學常數和表面粗糙度使用電腦操作，界面中點擊，即可進行測量和分析
精度	0.01nm或0.01%
準確度	0.2%或1nm
穩定性	0.02nm或0.02%
光斑尺寸	標準3mm,可以小至3um
要求樣品大小	大于1mm
分光儀/檢測器	400 - 1100 nm 波長范圍光譜分辨率: < 1 nm 電源 100-250 VAC, 50/60 Hz 20W
光源	5W的鎢鹵素燈色溫：2800K 使用壽命:1000小時
反射探針	光學纖維探針，400um纖維芯配有分光儀和光源支架
載樣臺	測量時用于放置測量的樣品
通訊接口	USB接口，方便與電腦對接
TFCompanion軟件	強大的數據庫包含兩500多種材料的光學常數（n：折射率，K：消失系數）誤差分析和模擬系統，保證在不同環境下對樣品測量的準確性可分析簡單和復雜的膜系
設備尺寸	200x250x100mm
重量	4.5kg