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VTC-200-4P噴霧旋轉涂覆機,勻膠機、顯影機、甩膠機、旋涂儀、spin coater主要用于半導體工藝、制版工藝過程中圖形的顯影及表面涂覆工藝，是一款上蓋可以加熱的勻膠機、顯影機，在勻膠或顯影過程結束后使用加熱功能使膠體薄膜中的溶劑繼續蒸發到含量低。工作過程中顯影液或膠體以霧狀噴到樣片上，使溶液在樣片表面均勻分布，有利于薄膜和顯影過程的順利進行。本機電機部分、溫度控制部分、注液部分

VTC-200PV真空旋轉涂膜機適用于半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機可用于強酸、強堿性涂覆溶液的涂膜制備。本機可以對涂膜機腔室進行抽真空，使樣品在*真空的狀態下進行涂膜，適用于在空氣中易氧化變質的薄膜材料的使用。工作時利用真空盤吸附的方式將樣品固定在載樣盤上，該設備可儲存12組程序，每組程序包含6個運行階段。不同運行階段設備轉數不同，使設備緩慢提升速

VTC-200真空旋轉涂膜機具有操作簡單、清理方便，體積小巧等優點，主要應用于各大專院校、科研院所的實驗室中進行薄膜的生成過程。工作時利用真空盤吸附的方式將樣品固定在載樣盤上，該設備利用兩段程序控制速度。首先開動涂膜機將設備轉數設置在一定的轉數范圍內，在此轉數范圍內設置一定的注膠時間對樣品進行注膠，注膠結束后涂膜機會提升轉數至第二段的極限轉數進行勻膠，在勻膠之前要對勻膠